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7月31日消息，据《日经新闻》报道，日本相机、打印机、光刻机大厂佳能（Canon）位于日本宇都宫市的新光刻机制造工厂将于9月正式投入量产，主攻成熟制程及后段封装应用设备，为全球芯片封装与成熟制程市场提供更多设备产能支持。
据介绍，这座新工厂是佳能在2023年开始动工建设的，并可能使用自家开发的Nanoimprint（纳米压印）技术，总投资额超过500亿日元，涵盖厂房与先进制造设备。新厂面积达6.75万平方公尺，投产后将使光刻设备总产能提升50%。
目前，荷兰ASML 几乎垄断了全球90%以上的光刻机市场，不仅面向先进制程的浸没式DUV光机市场，ASML几乎独占，在极紫外光（EUV）光刻机领域更是只有ASML一家供应商。
但是，在成熟制程（I-line和KrF)及先进封装光刻机领域，佳能仍有一席之地。特别是后段制程设备，约占其总销售额的30%，主要供应台积电等封装客户，用于中介层与多芯片模块制作，与ASML 在市场定位上并不直接竞争，而是专攻ASML 不重视的市场。
随着AI 芯片推动CoWoS 与多芯片封装需求持续攀升，佳能在封装光刻机领域的技术优势有望持续受益。新厂投产将有助于佳能在全球光刻机市场中稳固既有优势炒股配资技巧，并为AI 与先进封装需求提供更灵活的产能应对。
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